个案分享及成效（一）中国某晶片生产工厂

• 中国某晶片生产工厂

• 2022年8月投入运行

晶片生产过程中产生含氟废水，来源主要为：

1. 1. 刻蚀工艺：常用氟化物化学试剂（如氢氟酸、四氟化矽）进行矽片表面的化学刻蚀；
   2. 清洗工艺：在清洗晶圆的过程中，使用氟化物溶液去除表面杂质。
   3. 化学机械抛光（CMP）：抛光浆料中可能含有氟化物添加剂。

在含氟废水处理过程中，常通过加入钙盐（如石灰、氯化钙）中和氟化物，将溶解的氟化物转化为氟化钙沉淀。

工厂废水处理系统管道因氟化钙沉积，导致流量减少30%，一年内清理成本超过50万元。

• 安装电子除垢器，降低氟化钙晶体附着率；

• 通过收集改造前后流量、压力变化数据，分析防垢效果。

• 每年平均流量提升30%，相应节省30%水泵耗能；
• 每年管道堵塞次数减少80%，每年节能及维护成本减少约50万元；
• 延长设备使用寿命。