個案分享及成效（一）中國某晶片生產工廠

• 中國某晶片生產工廠

• 2022年8月投入運行

晶片生產過程中產生含氟廢水，來源主要為：

1. 1. 刻蝕工藝：常用氟化物化學試劑（如氫氟酸、四氟化矽）進行矽片表面的化學刻蝕；
   2. 清洗工藝：在清洗晶圓的過程中，使用氟化物溶液去除表面雜質。
   3. 化學機械拋光（CMP）：拋光漿料中可能含有氟化物添加劑。

在含氟廢水處理過程中，常通過加入鈣鹽（如石灰、氯化鈣）中和氟化物，將溶解的氟化物轉化為氟化鈣沉澱。

工廠廢水處理系統管道因氟化鈣沉積，導致流量減少30%，一年內清理成本超過50萬元。

• 安裝電子除垢器，降低氟化鈣晶體附著率；

• 通過收集改造前後流量、壓力變化數據，分析防垢效果。

• 每年平均流量提升30%，相應節省30%水泵耗能；
• 每年管道堵塞次數減少80%，每年節能及維護成本減少約50萬元；
• 延長設備使用壽命。